產(chǎn)品介紹　超純水超純水：既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。超純水，是一般工藝很難達到的程度，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm 。超純水是美國科技界為了研制超純材料(半導(dǎo)體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當?shù)某R界精細技術(shù)生產(chǎn)出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。 2 工藝流程　　1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 　　2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝) 　　3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝) 　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝) 　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)以上工藝各有各的優(yōu)勢，你可以根據(jù)你自身的情況選購適合你的工藝。隨著科學(xué)的發(fā)展，很多新的工藝已經(jīng)替代了舊的 　　中國國家實驗室分析用水標準產(chǎn)品屬性純水，高純水，超純水的區(qū)別 　　 3.1 純水純水是指既將水中易去除的強電介質(zhì)去除，又將水中難以除去的硅OKP超純水酸及二氧化碳等弱電解質(zhì)去除至一定程度的水。純水的含鹽量在1.0mg/L以下，電導(dǎo)率小于50μs/cm?！　? 3.2 高純水高純水是指將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm?！　? 3.3 超純水超純水是指將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機物均去除至很低程度的水。使用及維護超純水應(yīng)用領(lǐng)域　　1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。 　　2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。 　　3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。其他說明超純水純度極高的水。集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。交易說明歡迎各大商家到青州源泰水處理設(shè)備有限公司參觀考察