技術(shù)優(yōu)勢： 1.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)具有可觀的電池效率提升，根據(jù)不同的工藝基礎(chǔ)，可提升0.2%-0.3%。 2.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)集擴(kuò)散后拋光和濕法刻蝕與一體（專利技術(shù)），無需額外設(shè)備投入，無需增加工序。 3.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)無需使用NaOH， HNO3 H2SO4，更環(huán)保、更低的化學(xué)品耗用成本。 4.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)能實(shí)現(xiàn)硅片浸入溶液傳輸并拋光（專利技術(shù)），無需“水上漂”或“滾輪帶液”，無刻蝕線，工藝穩(wěn)定，容易控制。 5.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)解決了反應(yīng)氣泡不易散發(fā)的難題，拋光效果更好，碎片率更低。 6.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)采用專用拋光液，背面拋光效果更好，容易控制，產(chǎn)量大，成本低，廢水低污染，易處理，節(jié)約廢水處理成本。 7.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)背拋光技術(shù)與SE，背面鈍化（AL2O3），背接觸技術(shù)，兩次印刷，MWT等主流技術(shù)可疊加，兼容性好，提升背面技術(shù)革新空間。 8.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)技術(shù)便于實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)集成或模塊化，方便客戶選擇整機(jī)或改造。 9.PV濕制程清洗設(shè)備 去PSG背拋光蝕刻清洗機(jī)是國內(nèi)第一個完全擁有自主知識產(chǎn)權(quán)、新型提效解決方案。 蘇州晶洲裝備科技有限公司 地 址:江蘇省常熟市辛莊光伏產(chǎn)業(yè)園光華環(huán)路32號 郵 編:215500 總 機(jī):0512-52992666 傳 真:0512-52210111 銷售熱線:0512-52992301- 8010 銷售郵箱:[email protected] 網(wǎng) 址:www.kzonetech.com