XCTG-6 XCTG-8
鍍膜室規(guī)格 ∮1200×1000～1200mm ∮1200～1900mm×1200～1300mm
極限真空度 ≤7.6×10-4Pa
冷態(tài)抽真空時間 從1×105Pa至6.6×10-3Pa≤15分鐘
機(jī)組配置 分子泵F2500  3臺 分子泵F4000 2-4臺
靶配置 6個弧源 8個弧源
配電要求 KW KW
設(shè)備用途 適用于手機(jī)殼、手表、高爾夫球具等行業(yè)高品質(zhì)鍍膜要求
備注 可根據(jù)用戶產(chǎn)品、產(chǎn)量、膜層特殊要求設(shè)計制造非標(biāo)專用設(shè)備?？杉友b磁控靶、中頻孿生對靶等。