超純水設備 http://www.water-lj.com/cp3/

超純水設備，是指采用某種合適的工藝，制備出符合某種高端產(chǎn)品用水的設備，其水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，同時不離解的氣體、膠體以及有機物（包括細菌）也去除至很低程度的水。其電導率一般為0.1~0.055uS/cm，電阻率（25℃）＞10MΩ?cm ，含鹽量＜0.1㎎/L.理想純水(理論上)電導率為0.055 uS/cm，電阻率（25℃）為18.3MΩ?cm。常見在半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。由于超純水的制備要求較高，現(xiàn)今市場上能夠制備出此種水質(zhì)的原料也較少，其主要工藝可分為如下兩種方式，以下就對常見的超純水設備工藝的性能特點及主要工藝流程做簡要的概述： 



超純水設備的性能特點及主要工藝流程

 1、傳統(tǒng)工藝：自來水→砂濾器→碳濾器→軟水器→保安過濾器→一級反滲透→混合床
 此種工藝為較早的制備超純水的工藝，其出水水質(zhì)可達到15-18MΩ?cm，多年來在諸多的使用者中已熟練應用，同時又有低廉的初期制作成本，因此在較多的人眼中，超純水設備即為此種傳統(tǒng)工藝設備；但其也擁有不足的地方，如：混床的再生需使用酸、堿，在再生的途中又不可連續(xù)制水，此時就帶來了運行費用的增加、操作人員的壓力及熟練程度加強、對于需連續(xù)造水的用戶需備混床，現(xiàn)場再生完的污水的排放又帶來了“環(huán)?！钡膯栴}，以上諸點因素現(xiàn)實使用者帶去了思考。
 2、新進工藝：自來水→砂濾器→碳濾器→軟水器→保安過濾器→一級反滲透→二級反滲透→EDI裝置→拋光混床→精密過濾器
 此種工藝為近些年新起的一種，環(huán)保、高較的超純水制備工藝，在短短數(shù)年時間內(nèi)已被諸多的使用者接受，并使用于真實案例中，其與傳統(tǒng)工藝的區(qū)別主要在于EDI裝置部份，在些，要想更多的了解此套工藝，需先對EDI進行述說：
 電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結(jié)合的純水制造技術。屬高科技綠色環(huán)保技術。EDI凈水設備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種先進技術的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。

東莞市鸞江水處理設備工程有限公司http://www.water-lj.com/