603-III 高真空磁控濺射設備

型號：603-III
地點：美國
狀態(tài)：AS IS，WHERE IS （我們提供翻新、安裝、保修服務，額外收取合理費用
包裝：賣方負責（如果需要）
保修/退款：無 說明：Inline Sputtering System
真空系統(tǒng)：Cryo Pumped ，Vacuum System CTI CryoTorr 8 with CTI 8500 Series Compressor， Leybold D60A Roughing Pump
Target尺寸：4 3/4" x 14 7/8"
DC陰極數(shù)量：3
RF陰極數(shù)量：0
RF刻蝕陰極數(shù)量：1
工藝氣體數(shù)量：1
殘余氣體分析儀：0
DC Power：10.00 kW DC （MRC制造）
RF Generator：1500 Watts（MRC制造）
RF Matching Network：包括
其他信息：Controller:
? Analog closed-loop control and monitored by microcomputer
? Process is fully automatic
? Process parameters are accomplished via keyboard entry and displayed on CRT
Substrate pallet size: 13" x 13"
Pallet carrier: Chain drive. Speed adjustable from 39.3"/min to 120"/min
Quartz substrate heater adjustable to 600 C.
INSET DC cathodes
Facilitiy Requirements
? Water: 4.0 gpm， 70 psig， 60 degrees F
? Air: 70-100 psig， filtered， 1 cfm.
? Sputtering gas: 3-5 psig
動力要求： 208 V 60 Hz 3 Phase
尺寸：
Width 78.000 in (198.1 cm)
Depth 56.000 in (142.2 cm)
Height 72.000 in (182.9 cm)
重量： 2，288 lb (1，038 kg)
如果對此設備有興趣，請郵件聯(lián)系我們。
 

廣州譚美電子科技有限公司（www.tanmytech.com）（ [email protected]）代理多家美、歐一流的半導體設備公司的產(chǎn)品，公司主要經(jīng)營高真空磁控濺射設備、量測設備、涂膠顯影設備、PECVD設備、RIE/ICP/DRIE深刻蝕設備、電子掃描顯微鏡、快速退火、等離子去膠、等離子刻蝕、電子束蒸發(fā)、濕法工藝設備。

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經(jīng)營產(chǎn)品：

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